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真空閥

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 02:33:15 +0000

真空閥 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 04:33

一、工作原理（按類型分）

截止閥（擋板閥）：擋板（閥芯）與閥座貼合 / 脫離控通斷，適配 10?~10?11Pa，密封性強，用于腔室與泵組通斷；
蝶閥：蝶板旋轉 0° 開、90° 關，適配 10?~10?3Pa，阻力小、開關快，適合大口徑氣路（如干燥爐）；
止回閥（單向閥）：氣體壓力差驅動閥芯單向導通，防反向回流，適配 10?~10?2Pa，用于前級泵出口；
微調閥：針形閥芯調間隙控流量，適配 10?~10??Pa，精度高，用于檢漏儀、真空規氣路。

二、應用場景

真空設備：泵組間裝截止閥聯動控壓；腔室檢修時關閥隔離真空；
工業生產：半導體工藝用微調閥控氣體流量；真空冶金用蝶閥切換抽真空 / 惰性氣體回填；
科研實驗：超高真空系統（加速器、TEM）用金屬密封截止閥保密封；檢漏儀用微調閥定漏點；
民生 / 特種：真空包裝機用截止閥控抽氣密封；航天模擬器用截止閥隔離梯度真空艙。

真空閥類目：

全金屬 UHV 閥
鋁質閥
鋁插板閥
電磁擋板閥
不銹鋼插板閥
微調放氣閥

真空產品

擴散泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 02:18:41 +0000

擴散泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 04:18

一、工作原理

以高溫油（如擴散泵油）為工作介質，通過加熱使油汽化產生高速油蒸氣射流（速度超 200m/s）；油蒸氣射流具有動量傳遞作用，將泵腔內待抽氣體分子 “裹挾” 至泵壁；

氣體分子與油蒸氣碰撞后，隨油蒸氣向排氣口方向運動；
油蒸氣接觸低溫泵壁后冷凝回流，重新加熱循環；
被輸送的氣體由前級泵（如旋片泵）抽走，實現中高真空獲取，量程10?1~10??Pa，需搭配前級泵使用，且需控溫防油過熱分解。

二、核心應用場景

真空設備過渡抽氣：作為旋片泵（低真空）與離子泵（超高真空）的 “中間泵”，將系統壓力從 10?1Pa 降至 10??Pa，為超高真空設備啟動鋪路；
工業鍍膜：大型光學鍍膜機（如眼鏡片、汽車玻璃鍍膜）、磁控濺射鍍膜生產線，維持腔室中高真空，避免膜層雜質；
金屬加工：真空釬焊（如航空零部件焊接）、真空熔煉（特種合金制備），抽除爐內氣體，防止金屬氧化；
科研與檢測：電子束焊機、真空光譜儀等設備，提供中高真空環境，保障光束穩定性與檢測精度。

擴散泵類目：

小型擴散泵
大型擴散泵

真空產品

旋片泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 02:10:22 +0000

旋片泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 04:10

一、工作原理

泵腔內偏心安裝轉子，轉子槽內嵌入 2-3 片可滑動旋片（靠彈簧或離心力緊貼泵腔內壁）；轉子旋轉時，旋片將泵腔分隔為多個可變容積腔室：

進氣側腔室容積增大，吸入待抽氣體；
氣體隨轉子轉動被帶入排氣側，腔室容積縮小，氣體被壓縮；
當氣體壓力高于大氣壓時，推開排氣閥排出，循環實現抽氣，量程10?~10?2Pa，部分型號可通過氣鎮閥減少水蒸氣凝結。

二、核心應用場景

真空設備前置抽氣：作為分子泵、離子泵等超高真空設備的 “前級泵”，先將系統壓力降至 10?1Pa 以下，為后級泵啟動創造條件；
工業生產：真空干燥（如塑料、電子元件脫水）、真空包裝（食品、醫療器械防潮）、小型鍍膜機（裝飾鍍膜、刀具鍍膜）腔室抽低真空；
科研與實驗：實驗室小型真空系統（如真空手套箱、簡易真空罐）、教學實驗用真空裝置，提供基礎低真空環境；
日常與民生：冰箱冰柜維修時抽真空（排除管路空氣）、小型真空吸盤設備（自動化生產線輕型物料搬運）。

旋片泵類目：

實驗室單級 (MS) 旋片泵
工業用單級 (MS) 旋片泵

真空產品

離子泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 01:42:17 +0000

離子泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 03:42

一、工作原理（按類型分）

濺射離子泵：高壓電場加速電子電離氣體，正離子被鈦陰極捕獲，鈦受轟擊濺射形成薄膜吸附殘余氣體，量程 10?3~10?11Pa，無油潔凈；?
升華離子泵：加熱鈦源使其升華，鈦膜主動吸附氣體，配合電離捕集惰性氣體，量程 10??~10?12Pa，極限真空更高；?
復合型離子泵：融合濺射與升華技術，兼顧抽速與極限真空，量程 10??~10?12Pa，適配多氣體成分場景。

二、核心應用場景

真空設備配套：為渦輪分子泵、真空腔室后續抽氣，保障系統極限真空；監測殘余氣體，判斷真空系統是否漏氣；?
科研實驗：為粒子加速器、核聚變裝置構建 10??Pa 以下超高真空，減少干擾；為 TEM/SEM、表面物理實驗提供潔凈真空，提升精度；?
工業生產：半導體光刻、離子注入中維持潔凈真空，避免雜質影響芯片制程；光學鍍膜（激光鏡片、航天元件）中保障膜層質量；?
航天軍工：模擬太空 10?1?Pa 以下真空，測試航天器部件；為紅外探測器、精密傳感器提供真空封裝，確保穩定性。

離子泵類目：

小型離子泵
中型離子泵
大型離子泵
復合離子泵
非蒸散型吸氣劑復合離子泵

真空產品

真空計

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 01:31:00 +0000

真空計 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 03:31

一、工作原理（按類型分）

熱傳導式：利用氣體熱傳導率隨壓力變化，通過檢測加熱元件（如鎢絲）的電阻 / 溫度變化反推真空度，量程 10?~10?1Pa，結構簡單；
電離式：燈絲發射電子電離氣體，離子流強度與壓力成正比，量程 10?1~10?11Pa，精度高，需先抽低真空；
電容式薄膜：壓力差使金屬膜片形變，導致電容變化，量程 10?~10??Pa，耐污染、無燈絲，適配腐蝕性氣體；
冷陰極式：高壓電場電離氣體，無燈絲損耗，量程 10?2~10??Pa，抗沖擊，適合惡劣環境。

二、核心應用場景

真空設備配套：監測真空泵組（分子泵、干泵）壓力，判斷是否達標 / 漏氣；保障鍍膜機、刻蝕機腔室真空穩定；
科研實驗：為加速器、核聚變裝置測超高真空，為 SEM/TEM 等儀器提供低干擾真空環境，提升實驗精度；
工業生產：半導體工藝（離子注入、晶圓清洗）控潔凈真空，醫藥凍干設備保真空度防藥品破壞；
計量校準：高精度真空計作標準，校準低精度設備，確保測量合規。

真空計類目：

真空產品

真空規管

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 01:06:17 +0000

真空規管 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 03:06

一、工作原理（按類型分）

熱傳導式：靠氣體熱傳導率隨壓力變化，檢測加熱金屬絲電阻反推壓力，量程 10?~10?1Pa，簡單低成本，需校準；
電離式：電子撞擊氣體電離產生離子流，離子流強度關聯壓力，量程 10?1~10?11Pa，精度高，需先抽低真空；
電容式薄膜：壓力差使薄金屬膜形變，導致電容變化，量程 10?~10??Pa，耐污染、無燈絲，適配腐蝕性氣體；
冷陰極電離式：高壓電場電離氣體，無燈絲損耗，量程 10?2~10??Pa，耐沖擊，適合惡劣環境。

二、應用場景

真空設備：配套真空泵組監測壓力（判狀態、查漏氣），鍍膜機 / 刻蝕機確認真空達標；
科研實驗：加速器、核聚變裝置測超高真空，SEM/TEM 保障成像分辨率；
工業生產：半導體工藝監測潔凈真空，醫藥凍干設備控真空度防藥品破壞；
計量校準：高精度規管作標準，校準低精度規管。

真空規管類目：

粗真空規
高真空規
寬量程真空規
薄膜真空規

真空產品

渦旋式干泵

ynqkjdcom — Thu, 21 Aug 2025 00:44:00 +0000

渦旋式干泵 ynqkjdcom Thu, 08/21/2025 - 02:44

一、工作原理

核心為渦旋嚙合壓縮：由靜渦旋盤（固定，外圈進氣）與動渦旋盤（偏心旋轉，無自轉）組成，二者嚙合形成封閉 “月牙形腔室”。過程分三步：

吸氣：動渦旋盤旋轉使外圍腔室負壓，吸入氣體；
壓縮：腔室向中心移動并縮小體積，壓縮氣體；
排氣：腔室到中心排氣口，排出壓縮氣體。
全程無摩擦、無潤滑油，間隙僅數十微米，實現無油潔凈抽氣，噪音≤65dB。

二、應用場景

半導體 / 微電子：適配刻蝕、薄膜沉積等工藝，提供 10?3Pa 潔凈真空，避免晶圓污染，保障芯片精度；
醫藥 / 食品：用于藥品凍干、食品真空包裝，符合 GMP/FDA 標準，杜絕油污染，保護熱敏物料活性；
材料 / 鍍膜：助力光學鍍膜、鋰電池材料干燥，減少鍍膜缺陷，保障電極導電性；
分析儀器 / 科研：為質譜儀、表面物理實驗提供低干擾真空，提升檢測精度與數據重復性；
工業輔助：用于真空吸附搬運、塑料脫氣，避免吸附件油污，降低制品氣泡率。

渦旋式干泵類目：

IDP 渦旋泵
渦旋泵省心套裝
TriScroll 泵
渦旋泵附件

真空產品

渦輪分子泵

ynqkjdcom — Wed, 20 Aug 2025 08:28:33 +0000

渦輪分子泵 ynqkjdcom Wed, 08/20/2025 - 10:28

一、工作原理

以動能傳遞為核心，通過高速旋轉的動葉輪（最高轉速 90,000 轉 / 分，外緣線速度 150-400 米 / 秒），將動能傳遞給氣體分子，使其從無序熱運動轉為定向流動；配合交替排列的靜葉輪（間隙僅 1 毫米），實現氣體從進氣口向排氣口輸送。需與前級真空泵（工作壓力 1-10?2Pa）協同，在分子流狀態下發揮高真空獲取能力。

二、應用場景

半導體制造：保障光刻、離子注入等工藝的高真空環境，避免雜質污染，確保芯片精度與性能；
科學研究：為加速器、電子顯微鏡等提供 10??Pa 以下超高真空，降低實驗干擾；
真空鍍膜：維持穩定真空，減少薄膜缺陷，提升光學、耐磨性能；
本公司除氣爐設備：
- 應用于不銹鋼精密工件（如航空連接件）除氣，將爐內真空度穩定在 10??Pa 以下，去除 H?、O?等殘留氣體，使材料氣體殘留量≤5ppm；
- 相比傳統系統，設備潔凈度提升 10 倍、除氣效率提高 30%，工件良品率從 92% 升至 99.5%，獲高端制造客戶復購。

渦輪分子泵類目：

控制器渦輪分子泵
真空渦輪分子泵
一體化渦輪分子泵系統
模塊化渦輪分子泵系統

真空產品

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真空閥

一、工作原理（按類型分）

二、應用場景

真空閥類目：

擴散泵

一、工作原理

二、核心應用場景

擴散泵類目：

旋片泵

一、工作原理

二、核心應用場景

旋片泵類目：

離子泵

一、工作原理（按類型分）

二、核心應用場景

離子泵類目：

真空計

一、工作原理（按類型分）

二、核心應用場景

真空計類目：

真空規管

一、工作原理（按類型分）

二、應用場景

真空規管類目：

渦旋式干泵

一、工作原理

二、應用場景

渦旋式干泵類目：

渦輪分子泵

一、工作原理

二、應用場景

渦輪分子泵類目：

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